低溫設備

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低分子模料處理裝置

  • 低分子模料處理裝置

設備組成:還原器、靜置器、架體、輸蠟泵站、恒溫循環泵站、保溫管路、氣動控製係統、電動控製係統

設備型號

LCZ300(400)Ⅱ×3A

LCZ300(400)Ⅱ×4A

LCZ300(400)Ⅱ×6A

靜置器組數

3

4

6

蠟桶容積

3×300(400)L

4×300(400)L

6×300(400)L

還原器額定溫度

120

120

120

靜置器額定溫度

100

100

100

氣源壓力

≥0.5MPa

≥0.5MPa

≥0.5MPa

使用電力

50KW/380V

55KW/380V

100KW/380V

外形尺寸mm

4600×2600×3570

5500×3250×2700

7235×2550×2613

重量

3T

3.2T

5.8T

使用範圍及特性簡介:

. 本設備為蠟液處理裝置,用於蠟液的除水,除雜質及充分物化。

. 由可編程序控製器(PLC)進行程序控製,液位由自動液位儀控製。

. 時間、溫度等參數按工藝要求設定可實現全自動操作。

. 由蠟液輸送機自動向蠟膏製備供應中心或直接向壓蠟機供給蠟液,並具有手動操作功能。

. 生產效率高,勞動強度低,工作環境整潔。

. 專利產品。


備注:設備型號中的"Ⅱ"表示低溫蠟處理裝置。


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